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  • 真空氫氣兩用爐

      

    真空氫氣兩用爐

    用途:
    1. 本設備可用于真空狀態下充氫擴散,真空除氣,真空釬焊,氣氛光亮退火及還原處理等用。

    制能化溫控儀, 動作控制采用FX2N可編程控制器。

     

    性能特點:
    該爐為單室臥式、立式爐,該設備較適合用于不銹鋼、鈦合金、硬質合金、金剛石粉末,高溫度合金的真空釬焊,氫氣擴散 還原 光亮退火爐溫均勻性可達到±3℃。隔熱屏采用金屬鉬和不銹鋼制成,發熱體為金屬鉬 (最高溫度可達1700℃) 

     

    主 要 技 術 性 能 規 格 參 數

    型號

    L121XII-200

    L121XII-300

    L121XII-400

    L121XII-600

    L121XII-1000

    有效工作尺寸
    (mm)

    200×200×300

    300×300×400

    400×400×500

    600×600×600

    1000×1000×800

    裝爐量

    10kg

    15kg

    30kg

    200kg

    500kg

    加熱功率

    35Kw

    40Kw

    80Kw

    100Kw

    180Kw

    最高爐溫

    1000℃-1700℃

    1000℃-1700℃

    1000℃-1700℃

    1000℃-1700℃

    1000℃-1700℃

    爐溫均勻性

    控制精度

    ±3℃

    ±3℃

    ±3℃

    ±3℃

    ±3℃

    ±1℃

    ±1℃

    ±1℃

    ±1℃

    ±1℃

    恢復真空

    5.0×10-3Pa<10min

    5.0×10-3Pa<10min

    5.0×10-3Pa<10min

    5.0×10-3Pa<10min

    5.0×10-3Pa<10min

    極限真空度

    Pa

    3×10-4

    6.7×10-5

    3×10-4

    6.7×10-5

    3×10-4

    6.7×10-5

    3×10-4

    6.7×10-5

    3×10-4

    6.7×10-5

    壓升率

    0.67Pa/h

    0.67Pa/h

    0.67Pa/h

    0.67Pa/h

    0.67Pa/h

    氣冷壓強

    ≤2bar

    ≤2bar

    ≤2bar

    ≤2bar

    ≤2bar

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